石墨烯分散機產(chǎn)品簡介

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機  在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機   石墨烯 分散技術(shù)三要素

二、分散劑用量推薦

三、石墨烯 分散劑概述

四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例

五、研磨分散設(shè)備使用建議

石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

詳情：

分散設(shè)備

（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制

（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯

（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散石墨烯

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SGN石墨烯研磨設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù)，通過高

轉(zhuǎn)速（高可達14000rpm）帶動高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配GM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

石墨烯分散機,氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機  

　設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
　　電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 
　　電源選擇：380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
　　電機選配件：PTC　熱保護、降噪型 
　　均質(zhì)機材質(zhì)：SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
　　均質(zhì)機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 
　　均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理 
　　進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍 
　　乳化機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
　　分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機，實驗室均質(zhì)機 
　　應(yīng)用于：奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥（除草劑、殺蟲劑）。

SGN乳化均質(zhì)機的應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散

2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

3. 農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑

4. 生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精

6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7. 涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土

詳情：

GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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