GMD2000甘草粉超細濕法膠體磨

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SGN研磨機效率高、輕便、整機模塊結構，操作方便，可長時間運轉，輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗。可在實驗室模擬在線工況進行循環或在線連續處理，具有高效均質無分散死角等

甘草具有抗炎、抗bian態反應的作用，這主要來自于甘草酸銥--甘草酸及甘草次酸鹽，還能抑制毛細血管通透性。腎上腺皮質激素樣作用，甘草具有鹽皮質甾醇樣作用和糖皮質類甾醇樣作用。其激素樣作用的原理，有人認為是甘草次酸的化學結構與腎上腺皮質激素有相似之點，是一種直接作用，但也有人認為是間接作用，即甘草次酸抑制了腎上腺皮質甾醇類在體內的破壞，因而血中含量相應增加。同時，甘草黃銅還有抑制酪氨酸酶活性、清除氧目由基，其抗氧化能力與維生素E比較接近

客戶原始樣品120目，希望通過高剪切研磨機能夠達到10微米以下，思峻給出了兩種方案，一種采用GMSD2000/4濕法高剪切研磨機12000rpm轉速下一遍兩遍測試效果；第二種采用思峻推出的GR4000/4高速濕法分散機，線速度66m/s,21000rpm轉速下一遍兩遍測試效果。目測效果是很明顯的，客戶也是比較滿意.

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。

根據一些行業特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GR2000高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.

濕法研磨機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

GMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

價格電議  孫：，公司有樣機可實驗！，歡迎廣大客戶來我司參觀指導！SGN銷售工程師會根據客戶具體需求做適當的設備選型，以及根據流量做型號相應放大！

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